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MPCVD設備應用在哪些領域和行業?
      我們所熟知的金剛石的生長沉積離不開MPCVD設備，這是因為要想獲得高質量金剛石薄膜，就要使用MPCVD設備。MPCVD設備的諧振腔內沒有內部電極，這樣就可以避免電極放電所產生的污染。并且它的運**壓范圍比較寬，所產生等離子體具有密度高、區域大、穩定度高并且不與真空器壁相接觸的優點，如此就可以避免器壁對薄膜的污染。在以前的工業中，人們通常習慣性的用已知的磁控管功率源來應用在MPCVD設備系統中，當然那是在沒有發現有更好的替換的時候，但是，現在不同往日，隨著技術的快速發展，用固態射頻微波功率源替代磁控管方案在MPCVD設備系統中的應用已經成為了一個新趨勢。所以，MPCVD方法以它獨特的優勢成為了目前相對有發展前景的高質量金剛石薄膜沉積方法之一。并且它也非常適合光學、電子以及工具級金剛石膜或者單晶和石墨烯等一些物質的沉積，同時在材質表面處理和低溫氧化物的生長等方面也有著很大的作用。
      MPCVD設備也可以直接在目標襯底材料上生長石墨烯，如240～700 ℃之間，MPCVD設備就可以在不同襯底材料上制備高質量的石墨烯，從而使得石墨烯在微電子領域的應用范圍得到了進一步的擴展。